Sami Kinnunen

Henkilökunnan yhteystiedot saatavilla yliopiston yhteystietohausta.

Aktiiviset JYU-affiliaatiot

Fysiikan laitos, Tutkijatohtori

Aiemmat, ei-aktiiviset tai muut työsuhteet

Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta (Jyväskylän yliopisto), Tohtoriopiskelija, Päättynyt
Fysiikan laitos (Jyväskylän yliopisto), Väitöskirjatutkija, Päättynyt

Tutkimuskuvaus

Atomikerroskasvatuksella tuotetut nanometrien paksuiset kalvot ovat yleisiä niin elektroniikassa kuin suojamateriaaleinakin. Käyttäen laajaa karakterisointimenetelmien kirjoa pyrin ymmärtämään kalvojen kasvuun vaikuttavia tekijöitä, mikä auttaa kehittämään tulevaisuudessa parempia kalvomateriaaleja.

Tieteenalat

114 Fysiikka (Luonnontieteet)

Julkaisut ja muut tuotokset

Elongation and plasmonic activity of embedded metal nanoparticles following heavy ion irradiation (2023) Korkos, Spyridon; et al.; A1; OA
Hydrogen incorporation in Al2O3 thin films grown by atomic layer deposition (2022) Kinnunen, Sami; G5; OA; 978-951-39-9198-2
Size dependent swift heavy ion induced Au nanoparticle elongation in SiO2 matrix (2022) Korkos, Spyridon; et al.; A1; OA
Spatial ALD of Al2O3 and ZnO using heavy water (2022) Kinnunen, Sami; et al.; A1; OA
Al2O3 ALD films grown using TMA + rare isotope 2H216O and 1H218O precursors (2021) Kinnunen, Sami; et al.; A1; OA
Effective suppression of nanotextured black silicon surface recombination channels by aluminum oxide : comparison from sputtered and ALD grown films (2021) Parashar, Piyush Kumar; et al.; A1
Hydrogen and Deuterium Incorporation in ZnO Films Grown by Atomic Layer Deposition (2021) Kinnunen, Sami; et al.; A1; OA
Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films (2020) Napari, Mari; et al.; A1; OA
Thermal atomic layer deposition of AlOxNy thin films for surface passivation of nano-textured flexible silicon (2019) Parashar, Piyush K.; et al.; A1
Characterization of ALD grown TixAlyN and TixAlyC thin films (2017) Kinnunen, Sami; et al.; A1; OA
The α and γ plasma modes in plasma-enhanced atomic layer deposition with O2–N2 capacitive discharges (2017) Napari, Mari; et al.; A1; OA