O1 Abstrakti
Onko teknostressi asennekysymys? : Teknologinen osaaminen jatkuvan oppimisen mahdollistajana (2022)
Rikala, P., Silvennoinen, K., Peltoniemi, A., Sorvali, J., Lämsä, J., Hämäläinen, R., & Niilo-Rämä, M. (2022). Onko teknostressi asennekysymys? : Teknologinen osaaminen jatkuvan oppimisen mahdollistajana. In Aikuiskasvatuksen tutkimuspäivät 10.2.-11.2.2022 : Jatkuva aikuiskasvatus. Abstraktikirja (pp. 31-32). Tampereen yliopisto. https://events.tuni.fi/uploads/2022/01/dddfa21e-aitu22-jatkuva-aikuiskasvatus.pdf
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Rikala, Pauliina; Silvennoinen, Kaisa; Peltoniemi, Aaron; Sorvali, Jesse; Lämsä, Joni; Hämäläinen, Raija; Niilo-Rämä, Mikko
Emojulkaisu: Aikuiskasvatuksen tutkimuspäivät 10.2.-11.2.2022 : Jatkuva aikuiskasvatus. Abstraktikirja
Konferenssin paikka ja aika: Tampere, Suomi, 10.-11.2.2022
Julkaisuvuosi: 2022
Artikkelin sivunumerot: 31-32
Kirjan kokonaissivumäärä: 60
Kustantaja: Tampereen yliopisto
Kustannuspaikka: Tampere
Julkaisumaa: Suomi
Julkaisun kieli: suomi
Pysyvä verkko-osoite: https://events.tuni.fi/uploads/2022/01/dddfa21e-aitu22-jatkuva-aikuiskasvatus.pdf
Julkaisun avoin saatavuus: Avoimesti saatavilla
Julkaisukanavan avoin saatavuus: Kokonaan avoin julkaisukanava
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/83897
YSO-asiasanat: teknologia; digitalisaatio; työelämä; oppiminen
Liittyvät organisaatiot
Hankkeet, joissa julkaisu on tehty
- Digitaaliset työympäristöt: Parempaa yhteisöllistä ongelmanratkaisua ja hyvinvointia
- Hämäläinen, Raija
- Työsuojelurahasto
OKM-raportointi: Ei raportoida