A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Atomic layer deposition of lithium containing thin films (2009)

Putkonen, M., Aaltonen, T., Alnes, M., Sajavaara, T., Nilsen, O., & Fjellvåg, H. (2009). Atomic layer deposition of lithium containing thin films. J. Mater. Chem, (19), 8767. https://doi.org/10.1039/b913466b

JYU-tekijät tai -toimittajat

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Putkonen, M.; Aaltonen, Tuula; Alnes, M.; Sajavaara, Timo; Nilsen, O.; Fjellvåg, H.

Lehti tai sarja: J. Mater. Chem

Julkaisuvuosi: 2009

Lehden numero: 19

Artikkelin sivunumerot: 8767

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1039/b913466b

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

Lisätietoja: M. Putkonen, T. Aaltonen, M. Alnes, T. Sajavaara, O. Nilsen and H. Fjellvåg Atomic layer deposition of lithium containing thin films J. Mater. Chem 19 (2009) 8767

Liittyvät organisaatiot

OKM-raportointi: Kyllä

Alustava JUFO-taso: Not rated