A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Atomic Layer Deposition and Characterization of Erbium Oxide-Doped Zirconium Oxide Thin Films (2010)

Tamm, A., Kemell, M., Kozlova, J., Sajavaara, T., Tallarida, M., Kukli, K., Sammelselg, V., Ritala, M., & Leskelä, M. (2010). Atomic Layer Deposition and Characterization of Erbium Oxide-Doped Zirconium Oxide Thin Films. J. Electrochem. Soc., 157, G193. https://doi.org/10.1149/1.3467843

JYU-tekijät tai -toimittajat

Sajavaara, Timo

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Tamm, A.; Kemell, M.; Kozlova, J.; Sajavaara, Timo; Tallarida, M.; Kukli, K.; Sammelselg, V.; Ritala, M.; Leskelä, M.

Lehti tai sarja: J. Electrochem. Soc.

ISSN: 0013-4651

Julkaisuvuosi: 2010

Volyymi: 157

Artikkelin sivunumerot: G193

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1149/1.3467843

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus:

YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus

Tieteenalat: