A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa
RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon (2013)


Meersschaut, J., Käyhkö, M., Lenka, H., Witters, T., Zhao, Q., Vantomme, A., & Vandervorst, W. (2013). RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon. In Application of accelerators in research and industry: Twenty-Second International Conference (pp. 190-194). American Institute of Physics. AIP Conference Proceedings, 1525. https://doi.org/10.1063/1.4802317


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Meersschaut, J.; Käyhkö, Marko; Lenka, H.P.; Witters, T.; Zhao, Q.; Vantomme, A.; Vandervorst, W.

Emojulkaisu: Application of accelerators in research and industry: Twenty-Second International Conference

ISBN: 978-0-7354-1148-7

Lehti tai sarja: AIP Conference Proceedings

ISSN: 0094-243X

eISSN: 1935-0465

Julkaisuvuosi: 2013

Sarjan numero: 1525

Artikkelin sivunumerot: 190-194

Kustantaja: American Institute of Physics

Kustannuspaikka: College Park, MD

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1063/1.4802317

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus:


YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus; ohutkalvot

Vapaat asiasanat: Rutherford backscattering; titanium compounds; X-ray emission spectra


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2013

JUFO-taso: 1


Viimeisin päivitys 2021-09-06 klo 07:14