A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion (2014)

Ylivaara, O. M., Liu, X., Kilpi, L., Lyytinen, J., Schneider, D., Laitinen, M., Julin, J., Alie, S., Sintonen, S., Berdova, M., Haimi, E., Sajavaara, T., Ronkainen, H., Lipsanen, H., Koskinen, J., Hannula, S.-P., & Puurunen, R. L. (2014). Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion. Thin Solid Films, 552(3 February), 124-135. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.112

JYU-tekijät tai -toimittajat

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Ylivaara, Oili M.E.; Liu, Xuwen; Kilpi, Lauri; Lyytinen, Jussi; Schneider, Dieter; Laitinen, Mikko; Julin, Jaakko; Alie, Saima; Sintonen, Sakari; Berdova, Maria; et al.

Lehti tai sarja: Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

eISSN: 1879-2731

Julkaisuvuosi: 2014

Volyymi: 552

Lehden numero: 3 February

Artikkelin sivunumerot: 124-135

Kustantaja: Elsevier S.A.

Kustannuspaikka: Lausanne

Julkaisumaa: Sveitsi

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.112

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus; kovuus; adheesio; alumiinioksidi

Vapaat asiasanat: residual stress; elastic modulus

Liittyvät organisaatiot

OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2014

JUFO-taso: 2