A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Very strong −N–X+⋯−O–N+ halogen bonds (2016)

Puttreddy, R., Jurcek, O., Bhowmik, S., Mäkelä, T., & Rissanen, K. (2016). Very strong −N–X+⋯−O–N+ halogen bonds. Chemical Communications, 52(11), 2338-2341. https://doi.org/10.1039/C5CC09487A

JYU-tekijät tai -toimittajat

Puttreddy, Rakesh
Jurcek, Ondrej
Bhowmik, Sandip
Mäkelä, Toni
Rissanen, Kari

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Puttreddy, Rakesh; Jurcek, Ondrej; Bhowmik, Sandip; Mäkelä, Toni; Rissanen, Kari

Lehti tai sarja: Chemical Communications

ISSN: 1359-7345

eISSN: 1364-548X

Julkaisuvuosi: 2016

Volyymi: 52

Lehden numero: 11

Artikkelin sivunumerot: 2338-2341

Kustantaja: RSC Publications

Kustannuspaikka: Cambridge

Julkaisumaa: Britannia

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1039/C5CC09487A

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus:

Lisätietoja: Communication-osio.

Tiivistelmä

A new −N–X+⋯−O–N+ paradigm for halogen bonding is established by using an oxygen atom as an unusual halogen bond acceptor. The strategy yielded extremely strong halogen bonded complexes with very high association constants characterized in either CDCl3 or acetone-d6 solution by 1H NMR titrations and in the solid-state by single crystal X-ray analysis. The obtained halogen bond interactions, RXB, in the solid-state are found to be in the order of strong hydrogen bonds, viz. RXB ≈ RHB.

YSO-asiasanat: orgaaninen kemia; supramolekulaarinen kemia; kemialliset sidokset

Vapaat asiasanat: halogeenisidos

Tieteenalat: