A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films (2016)


Broas, M., Sippola, P., Sajavaara, T., Vuorinen, V., Perros, A. P., Lipsanen, H., & Paulasto-Kröckel, M. (2016). Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 34(4), Article 041506. https://doi.org/10.1116/1.4953029


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Broas, Mikael; Sippola, Perttu; Sajavaara, Timo; Vuorinen, Vesa; Perros, Alexander Pyymaki; Lipsanen, Harri; Paulasto-Kröckel, Mervi

Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN: 0734-2101

eISSN: 1520-8559

Julkaisuvuosi: 2016

Volyymi: 34

Lehden numero: 4

Artikkelinumero: 041506

Kustantaja: American Institute of Physics

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1116/1.4953029

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus:

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/50802


YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus; epäpuhtaudet

Vapaat asiasanat: aluminum nitride films


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:
Muut organisaatiot:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2016

JUFO-taso: 1


Viimeisin päivitys 2021-08-06 klo 20:01