A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films (2016)
Broas, M., Sippola, P., Sajavaara, T., Vuorinen, V., Perros, A. P., Lipsanen, H., & Paulasto-Kröckel, M. (2016). Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 34(4), Article 041506. https://doi.org/10.1116/1.4953029
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Broas, Mikael; Sippola, Perttu; Sajavaara, Timo; Vuorinen, Vesa; Perros, Alexander Pyymaki; Lipsanen, Harri; Paulasto-Kröckel, Mervi
Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A
ISSN: 0734-2101
eISSN: 1520-8559
Julkaisuvuosi: 2016
Volyymi: 34
Lehden numero: 4
Artikkelinumero: 041506
Kustantaja: American Institute of Physics
Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)
Julkaisun kieli: englanti
DOI: https://doi.org/10.1116/1.4953029
Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin
Julkaisukanavan avoin saatavuus:
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/50802
YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus; epäpuhtaudet
Vapaat asiasanat: aluminum nitride films
Liittyvät organisaatiot
OKM-raportointi: Kyllä
Raportointivuosi: 2016
JUFO-taso: 1