A2 Katsausartikkeli tieteellisessä aikausilehdessä
Review Article: Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition—Outcome of the “Virtual Project on the History of ALD” (2017)
Ahvenniemi, E., Akbashev, A. R., Ali, S., Bechelany, M., Berdova, M., Boyadjiev, S., Cameron, D. C., Chen, R., Chubarov, M., Cremers, V., Devi, A., Drozd, V., Elnikova, L., Gottardi, G., Grigoras, K., Hausmann, D. M., Hwang, C. S., Jen, S.-H., Kallio, T., . . . Yurkevich, O. (2017). Review Article: Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition—Outcome of the “Virtual Project on the History of ALD”. Journal of Vacuum Science and Technology A, 35(1), Article 010801. https://doi.org/10.1116/1.4971389
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Ahvenniemi, Esko; Akbashev, Andrew R.; Ali, Saima; Bechelany, Mikhael; Berdova, Maria; Boyadjiev, Stefan; Cameron, David C.; Chen, Rong; Chubarov, Mikhail; Cremers, Veronique; et al.
Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A
ISSN: 0734-2101
eISSN: 1520-8559
Julkaisuvuosi: 2017
Volyymi: 35
Lehden numero: 1
Artikkelinumero: 010801
Kustantaja: AIP Publishing
Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)
Julkaisun kieli: englanti
DOI: https://doi.org/10.1116/1.4971389
Julkaisun avoin saatavuus: Avoimesti saatavilla
Julkaisukanavan avoin saatavuus: Osittain avoin julkaisukanava
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/52742
YSO-asiasanat: atomikerroskasvatus
Vapaat asiasanat: semiconductor manufacturing; history of technology
Liittyvät organisaatiot
- Aalto-yliopisto (AYO)
- ASELSAN A.S.
- Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler
- Centre de Développement des Energies Renouvelables
- Fraunhofer Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS
- Georgi Nadjakov Institute of Solid State Physics, Bulgarian Academy of Sciences
- GlobalFoundries, USA
- Helsingin yliopisto
- Huazhong University of Science & Technology
- Immanuel Kant Baltic Federal University
OKM-raportointi: Kyllä
Raportointivuosi: 2017
JUFO-taso: 1