A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Heavy-Ion-Induced Degradation in SiC Schottky Diodes : Incident Angle and Energy Deposition Dependence (2017)


Javanainen, A., Turowski, M., Galloway, K. F., Nicklaw, C., Ferlet-Cavrois, V., Bosser, A., Lauenstein, J.-M., Muschitiello, M., Pintacuda, F., Reed, R. A., Schrimpf, R. D., Weller, R. A., & Virtanen, A. (2017). Heavy-Ion-Induced Degradation in SiC Schottky Diodes : Incident Angle and Energy Deposition Dependence. IEEE Transactions on Nuclear Science, 64(8), 2031-2037. https://doi.org/10.1109/TNS.2017.2717045


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajatJavanainen, Arto; Turowski, Marek; Galloway, Kenneth F.; Nicklaw, Christopher; Ferlet-Cavrois, Véronique; Bosser, Alexandre; Lauenstein, Jean-Marie; Muschitiello, Michele; Pintacuda, Francesco; Reed, Robert A.; et al.

Lehti tai sarjaIEEE Transactions on Nuclear Science

ISSN0018-9499

eISSN1558-1578

Julkaisuvuosi2017

Volyymi64

Lehden numero8

Artikkelin sivunumerot2031-2037

KustantajaInstitute of Electrical and Electronics Engineers

KustannuspaikkaPiscataway

JulkaisumaaYhdysvallat (USA)

Julkaisun kielienglanti

DOIhttps://doi.org/10.1109/TNS.2017.2717045

Julkaisun avoin saatavuusEi avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX)https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/55216


YSO-asiasanationitpiidioditsäteilymallintaminen

Vapaat asiasanation radiation effects; modeling; power semiconductor devices; schottky diodes; silicon carbide


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointiKyllä

Raportointivuosi2017

JUFO-taso1


Viimeisin päivitys 2024-08-01 klo 18:17