A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Heavy-Ion-Induced Degradation in SiC Schottky Diodes : Incident Angle and Energy Deposition Dependence (2017)
Javanainen, A., Turowski, M., Galloway, K. F., Nicklaw, C., Ferlet-Cavrois, V., Bosser, A., Lauenstein, J.-M., Muschitiello, M., Pintacuda, F., Reed, R. A., Schrimpf, R. D., Weller, R. A., & Virtanen, A. (2017). Heavy-Ion-Induced Degradation in SiC Schottky Diodes : Incident Angle and Energy Deposition Dependence. IEEE Transactions on Nuclear Science, 64(8), 2031-2037. https://doi.org/10.1109/TNS.2017.2717045
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Javanainen, Arto; Turowski, Marek; Galloway, Kenneth F.; Nicklaw, Christopher; Ferlet-Cavrois, Véronique; Bosser, Alexandre; Lauenstein, Jean-Marie; Muschitiello, Michele; Pintacuda, Francesco; Reed, Robert A.; et al.
Lehti tai sarja: IEEE Transactions on Nuclear Science
ISSN: 0018-9499
eISSN: 1558-1578
Julkaisuvuosi: 2017
Volyymi: 64
Lehden numero: 8
Artikkelin sivunumerot: 2031-2037
Kustantaja: Institute of Electrical and Electronics Engineers
Kustannuspaikka: Piscataway
Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)
Julkaisun kieli: englanti
DOI: https://doi.org/10.1109/TNS.2017.2717045
Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin
Julkaisukanavan avoin saatavuus:
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/55216
YSO-asiasanat: ionit; pii; diodit; säteily; mallintaminen
Vapaat asiasanat: ion radiation effects; modeling; power semiconductor devices; schottky diodes; silicon carbide
Liittyvät organisaatiot
OKM-raportointi: Kyllä
Raportointivuosi: 2017
JUFO-taso: 1