A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Blistering mechanisms of atomic-layer-deposited AlN and Al2O3 films (2017)


Broas, M., Jiang, H., Graff, A., Sajavaara, T., Vuorinen, V., & Paulasto-Kröckel, M. (2017). Blistering mechanisms of atomic-layer-deposited AlN and Al2O3 films. Applied Physics Letters, 111 (14), 141606. doi:10.1063/1.4994974


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Broas, Mikael; Jiang, Hua; Graff, Andreas; Sajavaara, Timo; Vuorinen, Vesa; Paulasto-Kröckel, Mervi

Lehti tai sarja: Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Julkaisuvuosi: 2017

Volyymi: 111

Lehden numero: 14

Artikkelinumero: 141606

Kustantaja: AIP Publishing LLC

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1063/1.4994974

Avoin saatavuus: Julkaisukanava ei ole avoin

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/55615


YSO-asiasanat: ihotautioppi; keramiikka; mikroskopia; ohutkalvot

Vapaat asiasanat: piezoelectric films


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2017

JUFO-taso: 2


Viimeisin päivitys 2021-22-02 klo 15:28