A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Comparison of mechanical properties and composition of magnetron sputter and plasma enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films (2018)

Sippola, P., Perros, A. P., Ylivaara, O. M. E., Ronkainen, H., Julin, J., Liu, X., Sajavaara, T., Etula, J., Lipsanen, H., & Puurunen, R. L. (2018). Comparison of mechanical properties and composition of magnetron sputter and plasma enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 36(5), Article 051508. https://doi.org/10.1116/1.5038856

JYU-tekijät tai -toimittajat

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Sippola, Perttu; Perros, Alexander Pyymaki; Ylivaara, Oili M. E.; Ronkainen, Helena; Julin, Jaakko; Liu, Xuwen; Sajavaara, Timo; Etula, Jarkko; Lipsanen, Harri; Puurunen, Riikka L.

Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN: 0734-2101

eISSN: 1520-8559

Julkaisuvuosi: 2018

Volyymi: 36

Lehden numero: 5

Artikkelinumero: 051508

Kustantaja: AIP Publishing LLC

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1116/1.5038856

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/59133

YSO-asiasanat: ohutkalvot; fysikaaliset ominaisuudet; kemiallinen analyysi; metrologia

Vapaat asiasanat: X-ray diffraction; elastic moduli; mechanical testing; sputter deposition

Liittyvät organisaatiot

OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2018

JUFO-taso: 1