A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
In-situ annealing characterization of atomic-layer-deposited Al2O3 in N2, H2 and vacuum atmospheres (2019)

Broas, M., Lemettinen, J., Sajavaara, T., Tilli, M., Vuorinen, V., Suihkonen, S., & Paulasto-Kröckel, M. (2019). In-situ annealing characterization of atomic-layer-deposited Al2O3 in N2, H2 and vacuum atmospheres. Thin Solid Films, 682, 147-155. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.03.010

JYU-tekijät tai -toimittajat

Sajavaara, Timo

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Broas, Mikael; Lemettinen, Jori; Sajavaara, Timo; Tilli, Markku; Vuorinen, Vesa; Suihkonen, Sami; Paulasto-Kröckel, Mervi

Lehti tai sarja: Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

eISSN: 1879-2731

Julkaisuvuosi: 2019

Volyymi: 682

Lehden numero: 0

Artikkelin sivunumerot: 147-155

Kustantaja: Elsevier BV

Julkaisumaa: Alankomaat

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.03.010

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin