A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Nanofabrication on 2D and 3D Topography via Positive‐Tone Direct‐Write Laser Lithography (2020)

Heiskanen, S., Geng, Z., Mastomäki, J., & Maasilta, I. J. (2020). Nanofabrication on 2D and 3D Topography via Positive‐Tone Direct‐Write Laser Lithography. Advanced Engineering Materials, 22(2), Article 1901290. https://doi.org/10.1002/adem.201901290

JYU-tekijät tai -toimittajat

Heiskanen, Samuli
Geng, Zhuoran
Mastomäki, Jaakko
Maasilta, Ilari

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Heiskanen, Samuli; Geng, Zhuoran; Mastomäki, Jaakko; Maasilta, Ilari J.

Lehti tai sarja: Advanced Engineering Materials

ISSN: 1438-1656

eISSN: 1527-2648

Julkaisuvuosi: 2020

Volyymi: 22

Lehden numero: 2

Artikkelinumero: 1901290

Kustantaja: Wiley-VCH Verlag

Julkaisumaa: Saksa

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1002/adem.201901290

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/68006

Tiivistelmä

Direct laser writing (DLW) lithography using two‐photon absorption is a powerful technique mostly used for fabrication of complex structures in micro‐ and nanoscale, by photopolymerizing a negative‐tone resist. In contrast, in this study it is demonstrated that DLW is also well suited for fabricating nano‐ to microscale metallic structures using lift‐off and a positive‐tone photoresist. It is shown first that versatile, fast and large area fabrication is possible on flat two‐dimensional insulating substrates, and an expression for how the line width varies with the scanning speed is derived, with excellent agreement with the experiments. Even more interestingly, a unique application for the DLW lift‐off process is demonstrated, by fabricating sub‐micron scale metallic wiring on uneven substrates with sloping elevation changes as high as 20 µm. Such fabrication is practically impossible with more standard lithographic techniques.

YSO-asiasanat: nanotekniikka; nanorakenteet; lasertekniikka

Vapaat asiasanat: direct laser writing; lift‐off nanofabrication; positive‐tone resist; two‐photon absorption

Liittyvät organisaatiot

Hankkeet, joissa julkaisu on tehty

OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2020

JUFO-taso: 1