A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films (2020)


Napari, M., Huq, T. N., Maity, T., Gomersall, D., Niang, K. M., Barthel, A., Thompson, J. E., Kinnunen, S., Arstila, K., Sajavaara, T., Hoye, R. L. Z., Flewitt, A. J., & MacManus-Driscoll, J. L. (2020). Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films. InfoMat, 2(4), 769-774. https://doi.org/10.1002/inf2.12076


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Napari, Mari; Huq, Tahmida N.; Maity, Tuhin; Gomersall, Daisy; Niang, Kham M.; Barthel, Armin; Thompson, Juliet E.; Kinnunen, Sami; Arstila, Kai; Sajavaara, Timo; et al.

Lehti tai sarja: InfoMat

eISSN: 2567-3165

Julkaisuvuosi: 2020

Volyymi: 2

Lehden numero: 4

Artikkelin sivunumerot: 769-774

Kustantaja: John Wiley & Sons

Julkaisumaa: Saksa

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1002/inf2.12076

Julkaisun avoin saatavuus: Avoimesti saatavilla

Julkaisukanavan avoin saatavuus: Kokonaan avoin julkaisukanava

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/68402


YSO-asiasanat: ohutkalvot; atomikerroskasvatus; kemialliset reaktiot; kemialliset ilmiöt

Vapaat asiasanat: atomic layer deposition; chemical vapor deposition; nickel oxide; solution deposition; thin films


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2020

JUFO-taso: 1


Viimeisin päivitys 2021-02-08 klo 10:24