A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films (2020)


Napari, Mari; Huq, Tahmida N.; Maity, Tuhin; Gomersall, Daisy; Niang, Kham M.; Barthel, Armin; Thompson, Juliet E.; Kinnunen, Sami; Arstila, Kai; Sajavaara, Timo; Hoye, Robert L. Z. et al. (2020). Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films. InfoMat, 2 (4), 769-774. DOI: 10.1002/inf2.12076


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Napari, Mari; Huq, Tahmida N.; Maity, Tuhin; Gomersall, Daisy; Niang, Kham M.; Barthel, Armin; Thompson, Juliet E.; Kinnunen, Sami; Arstila, Kai; Sajavaara, Timo; et al.

Lehti tai sarja: InfoMat

eISSN: 2567-3165

Julkaisuvuosi: 2020

Volyymi: 2

Lehden numero: 4

Artikkelin sivunumerot: 769-774

Kustantaja: John Wiley & Sons

Julkaisumaa: Saksa

Julkaisun kieli: englanti

DOI: http://doi.org/10.1002/inf2.12076

Avoin saatavuus: Open access -julkaisukanavassa ilmestynyt julkaisu

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/68402


YSO-asiasanat: ohutkalvot; atomikerroskasvatus; kemialliset reaktiot; kemialliset ilmiöt

Vapaat asiasanat: atomic layer deposition; chemical vapor deposition; nickel oxide; solution deposition; thin films


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2020


Viimeisin päivitys 2020-18-08 klo 13:28