A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films (2020)


Cao, L., Mattelaer, F., Sajavaara, T., Dendooven, J., & Detavernier, C. (2020). A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 38(2), Article 022417. https://doi.org/10.1116/1.5139631


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajatCao, LiAo; Mattelaer, Felix; Sajavaara, Timo; Dendooven, Jolien; Detavernier, Christophe

Lehti tai sarjaJournal of Vacuum Science and Technology A

ISSN0734-2101

eISSN1520-8559

Julkaisuvuosi2020

Volyymi38

Lehden numero2

Artikkelinumero022417

KustantajaAmerican Institute of Physics

JulkaisumaaYhdysvallat (USA)

Julkaisun kielienglanti

DOIhttps://doi.org/10.1116/1.5139631

Julkaisun avoin saatavuusEi avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX)https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/67941


Tiivistelmä

For large-scale atomic layer deposition (ALD) of alumina, the most commonly used alkyl precursor trimethylaluminum poses safety issues due to its pyrophoric nature. In this work, the authors have investigated a liquid alkoxide, aluminum tri-sec-butoxide (ATSB), as a precursor for ALD deposition of alumina. ATSB is thermally stable and the liquid nature facilitates handling in a bubbler and potentially enables liquid injection toward upscaling. Both thermal and plasma enhanced ALD processes are investigated in a vacuum type reactor by using water, oxygen plasma, and water plasma as coreactants. All processes achieved ALD deposition at a growth rate of 1–1.4 Å/cycle for substrate temperatures ranging from 100 to 200 °C. Film morphology, surface roughness, and composition have been studied with different characterization techniques.


YSO-asiasanatohutkalvotatomikerroskasvatusalumiini

Vapaat asiasanatplasma processing; atomic layer deposition


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointiKyllä

Raportointivuosi2020

JUFO-taso1


Viimeisin päivitys 2024-26-03 klo 09:18