A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films (2020)


Cao, LiAo; Mattelaer, Felix; Sajavaara, Timo; Dendooven, Jolien; Detavernier, Christophe (2020). A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 38 (2), 022417. DOI: 10.1116/1.5139631


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Cao, LiAo; Mattelaer, Felix; Sajavaara, Timo; Dendooven, Jolien; Detavernier, Christophe

Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN: 0734-2101

eISSN: 1520-8559

Julkaisuvuosi: 2020

Volyymi: 38

Lehden numero: 2

Artikkelinumero: 022417

Kustantaja: American Institute of Physics

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: http://doi.org/10.1116/1.5139631

Avoin saatavuus: Julkaisukanava ei ole avoin

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/67941


Tiivistelmä

For large-scale atomic layer deposition (ALD) of alumina, the most commonly used alkyl precursor trimethylaluminum poses safety issues due to its pyrophoric nature. In this work, the authors have investigated a liquid alkoxide, aluminum tri-sec-butoxide (ATSB), as a precursor for ALD deposition of alumina. ATSB is thermally stable and the liquid nature facilitates handling in a bubbler and potentially enables liquid injection toward upscaling. Both thermal and plasma enhanced ALD processes are investigated in a vacuum type reactor by using water, oxygen plasma, and water plasma as coreactants. All processes achieved ALD deposition at a growth rate of 1–1.4 Å/cycle for substrate temperatures ranging from 100 to 200 °C. Film morphology, surface roughness, and composition have been studied with different characterization techniques.


YSO-asiasanat: ohutkalvot; atomikerroskasvatus; alumiini

Vapaat asiasanat: plasma processing; atomic layer deposition


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2020

Alustava JUFO-taso: 1


Viimeisin päivitys 2020-18-08 klo 13:19