A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Superconducting tunnel junction fabrication on three-dimensional topography based on direct laser writing (2020)
Heiskanen, S., & Maasilta, I. J. (2020). Superconducting tunnel junction fabrication on three-dimensional topography based on direct laser writing. Applied Physics Letters, 117(23), Article 232601. https://doi.org/10.1063/5.0029273
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Heiskanen, Samuli; Maasilta, Ilari J.
Lehti tai sarja: Applied Physics Letters
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
Julkaisuvuosi: 2020
Ilmestymispäivä: 07.12.2020
Volyymi: 117
Lehden numero: 23
Artikkelinumero: 232601
Kustantaja: American Institute of Physics
Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)
Julkaisun kieli: englanti
DOI: https://doi.org/10.1063/5.0029273
Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin
Julkaisukanavan avoin saatavuus:
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/73252
Rinnakkaistallenteen verkko-osoite (pre-print): https://arxiv.org/abs/2009.09749
Tiivistelmä
Superconducting junctions are widely used in a multitude of applications ranging from quantum information science and sensing to solidstate cooling. Traditionally, such devices must be fabricated on flat substrates using standard lithographic techniques. In this study, we demonstrate a highly versatile method that allows for superconducting junctions to be fabricated on a more complex topography. It is based on maskless direct laser writing and two-photon lithography, which allows writing in 3D space. We show that high-quality normal metal–insulator–superconductor tunnel junctions can be fabricated on top of a 20-lm-tall three-dimensional topography. Combined with conformal resist coating methods, this technique could allow sub-micron device fabrication on almost any type of topography in the future.
YSO-asiasanat: suprajohteet; nanoelektroniikka; nanotekniikka
Vapaat asiasanat: phononic crystal; temperature metrology; superconductor-insulator-superconductor tunnel junction; quantum information; spin coating; cryogenics; multiphoton lithography; refrigerators; electron tunneling
Liittyvät organisaatiot
OKM-raportointi: Kyllä
Raportointivuosi: 2020
JUFO-taso: 2