A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Superconducting tunnel junction fabrication on three-dimensional topography based on direct laser writing (2020)


Heiskanen, S., & Maasilta, I. J. (2020). Superconducting tunnel junction fabrication on three-dimensional topography based on direct laser writing. Applied Physics Letters, 117(23), Article 232601. https://doi.org/10.1063/5.0029273


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajatHeiskanen, Samuli; Maasilta, Ilari J.

Lehti tai sarjaApplied Physics Letters

ISSN0003-6951

eISSN1077-3118

Julkaisuvuosi2020

Ilmestymispäivä07.12.2020

Volyymi117

Lehden numero23

Artikkelinumero232601

KustantajaAmerican Institute of Physics

JulkaisumaaYhdysvallat (USA)

Julkaisun kielienglanti

DOIhttps://doi.org/10.1063/5.0029273

Julkaisun avoin saatavuusEi avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX)https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/73252

Rinnakkaistallenteen verkko-osoite (pre-print)https://arxiv.org/abs/2009.09749


Tiivistelmä

Superconducting junctions are widely used in a multitude of applications ranging from quantum information science and sensing to solidstate cooling. Traditionally, such devices must be fabricated on flat substrates using standard lithographic techniques. In this study, we demonstrate a highly versatile method that allows for superconducting junctions to be fabricated on a more complex topography. It is based on maskless direct laser writing and two-photon lithography, which allows writing in 3D space. We show that high-quality normal metal–insulator–superconductor tunnel junctions can be fabricated on top of a 20-lm-tall three-dimensional topography. Combined with conformal resist coating methods, this technique could allow sub-micron device fabrication on almost any type of topography in the future.


YSO-asiasanatsuprajohteetnanoelektroniikkananotekniikka

Vapaat asiasanatphononic crystal; temperature metrology; superconductor-insulator-superconductor tunnel junction; quantum information; spin coating; cryogenics; multiphoton lithography; refrigerators; electron tunneling


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointiKyllä

Raportointivuosi2020

JUFO-taso2


Viimeisin päivitys 2024-26-03 klo 09:19