A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Development of procedures for programmable proximity aperture lithography (2013)


Whitlow, H., Gorelick, S., Puttaraksa, N., Napari, M., Hokkanen, M., & Norarat, R. (2013). Development of procedures for programmable proximity aperture lithography. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 306, 307-310. https://doi.org/10.1016/j.nimb.2012.11.046


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Whitlow, Harry; Gorelick, Sergey; Puttaraksa, Nitipon; Napari, Mari; Hokkanen, Matti; Norarat, Rattanaporn

Lehti tai sarja: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

ISSN: 0168-583X

eISSN: 1872-9584

Julkaisuvuosi: 2013

Volyymi: 306

Artikkelin sivunumerot: 307-310

Kustantaja: Elsevier

Kustannuspaikka: Amsterdam

Julkaisumaa: Alankomaat

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1016/j.nimb.2012.11.046

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

Lisätietoja: ICNMTA2012


Vapaat asiasanat: Programmable proximity aperture lithography (PPAL); MeV ion beam lithography; Ion-fluence; Microfluidic


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2013

JUFO-taso: 1


Viimeisin päivitys 2024-08-05 klo 22:46