A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon (2018)


Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Liu, X., Rontu, V., Sintonen, S., Haimi, E., Malm, J., Bosund, M., Tuominen, M., Sajavaara, T., Lipsanen, H., Hannula, S.-P., Puurunen, R. L., & Ronkainen, H. (2018). Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon. Journal of Vacuum Science and Technology A, 36(1), Article 01A122. https://doi.org/10.1116/1.5003729


JYU-tekijät tai -toimittajat


Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajatKilpi, Laura; Ylivaara, Oili M. E.; Vaajoki, Antti; Liu, Xuwen; Rontu, Ville; Sintonen, Sakari; Haimi, Eero; Malm, Jari; Bosund, Markus; Tuominen, Marko; et al.

Lehti tai sarjaJournal of Vacuum Science and Technology A

ISSN0734-2101

eISSN1520-8559

Julkaisuvuosi2018

Volyymi36

Lehden numero1

Artikkelinumero01A122

KustantajaAIP Publishing LLC

KustannuspaikkaMelville

JulkaisumaaYhdysvallat (USA)

Julkaisun kielienglanti

DOIhttps://doi.org/10.1116/1.5003729

Julkaisun avoin saatavuusEi avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX)https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/56760


YSO-asiasanatohutkalvottribologiaatomikerroskasvatusatomitkitkananomateriaalit


Liittyvät organisaatiot

JYU-yksiköt:


OKM-raportointiKyllä

VIRTA-lähetysvuosi2018

JUFO-taso1


Viimeisin päivitys 2024-11-10 klo 22:46