A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon (2018)
Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Liu, X., Rontu, V., Sintonen, S., Haimi, E., Malm, J., Bosund, M., Tuominen, M., Sajavaara, T., Lipsanen, H., Hannula, S.-P., Puurunen, R. L., & Ronkainen, H. (2018). Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon. Journal of Vacuum Science and Technology A, 36(1), Article 01A122. https://doi.org/10.1116/1.5003729
JYU-tekijät tai -toimittajat
Julkaisun tiedot
Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Kilpi, Laura; Ylivaara, Oili M. E.; Vaajoki, Antti; Liu, Xuwen; Rontu, Ville; Sintonen, Sakari; Haimi, Eero; Malm, Jari; Bosund, Markus; Tuominen, Marko; et al.
Lehti tai sarja: Journal of Vacuum Science and Technology A
ISSN: 0734-2101
eISSN: 1520-8559
Julkaisuvuosi: 2018
Volyymi: 36
Lehden numero: 1
Artikkelinumero: 01A122
Kustantaja: AIP Publishing LLC
Kustannuspaikka: Melville
Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)
Julkaisun kieli: englanti
DOI: https://doi.org/10.1116/1.5003729
Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin
Julkaisukanavan avoin saatavuus:
Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/56760
YSO-asiasanat: ohutkalvot; tribologia; atomikerroskasvatus; atomit; kitka; nanomateriaalit
Liittyvät organisaatiot
OKM-raportointi: Kyllä
VIRTA-lähetysvuosi: 2018
JUFO-taso: 1