A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa
SEU characterization of commercial and custom-designed SRAMs based on 90 nm technology and below (2020)

Coronetti, A., Cecchetto, M., Wang, J., Tali, M., Fernandez Martinez, P., Kastriotou, M., Papadopoulou, A., Bilko, K., Castellani, F., Sacristan, M., Garcia Alia, R., Cazzaniga, C., Morilla, Y., Martin-Holgado, P., Van Goethem, M.-J., Kiewiet, H., Van Der Graaf, E., Brandenburg, S., Hajdas, W., . . . Puchner, H. (2020). SEU characterization of commercial and custom-designed SRAMs based on 90 nm technology and below. In REDW 2020 : Workshop record of the 2020 IEEE Radiation Effects Data Workshop. IEEE. https://doi.org/10.1109/REDW51883.2020.9325822

JYU-tekijät tai -toimittajat

Julkaisun tiedot

Julkaisun kaikki tekijät tai toimittajat: Coronetti, Andrea; Cecchetto, Matteo; Wang, Jialei; Tali, Maris; Fernandez Martinez, Pablo; Kastriotou, Maria; Papadopoulou, Athina; Bilko, Kacper; Castellani, Florent; Sacristan, Mario; et al.

Emojulkaisu: REDW 2020 : Workshop record of the 2020 IEEE Radiation Effects Data Workshop

Konferenssi:

Konferenssin paikka ja aika: Santa Fe, NM, USA (Virtual), 29.11.-30.12.2020

ISBN: 978-0-7381-1085-1

Julkaisuvuosi: 2020

Kustantaja: IEEE

Julkaisumaa: Yhdysvallat (USA)

Julkaisun kieli: englanti

DOI: https://doi.org/10.1109/REDW51883.2020.9325822

Julkaisun avoin saatavuus: Ei avoin

Julkaisukanavan avoin saatavuus: 

Julkaisu on rinnakkaistallennettu (JYX): https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/74226

Lisätietoja: Workshop held in conjunction with the 2020 IEEE Nuclear and Space Radiation Effects Conference.

Tiivistelmä

The R2E project at CERN has tested a few commercial SRAMs and a custom-designed SRAM, whose data are complementary to various scientific publications. The experimental data include low- and high-energy protons, heavy ions, thermal, intermediate- and high-energy neutrons, high-energy electrons and high-energy pions.

YSO-asiasanat: säteilyfysiikka; ionisoimaton säteily; ionisoiva säteily; elektroniikkakomponentit; muistit (tietotekniikka); käyttömuistit

Liittyvät organisaatiot

Hankkeet, joissa julkaisu on tehty

OKM-raportointi: Kyllä

Raportointivuosi: 2020

JUFO-taso: 1